一、基本介绍
泊菲莱降膜式紫外光反应装置利用精密溢流设计，让反应液在内壁形成一层100–500 μm的极薄液膜。
• 全覆盖辐照：极薄的液膜确保了紫外光能穿透整个反应截面，使所有反应分子都能获得充分光照。
• 结构化隔离设计：反应液膜与LED光源之间通过玻璃壁完全隔离，互不接触。这一设计从物理结构上解决了沉积物遮挡光源的隐患。
二、基本参数
| 参数分类 | 参数名称 | 参数值 |
|---|---|---|
| 光源 | 类型 | 柱状 LED 光源 |
| 光源 | 波长 | 255 nm / 310 nm / 365 nm / 420 nm / 450 nm / 白光 / 白光 + 365 nm |
| 光源 | 光功率 | 初始最大辐照度≥ 7 mW/cm² @100% 光功率 × 管长度中心且距离光源 800 mm 处，总光功率约为 460 W@1750 W 电功率 |
| 反应器 | 釜体材质 | 高硼硅，石英，316L |
| 反应器 | 相态 | 液相 / 气液相 |
| 反应器 | 使用范围 | -20 ~ 60℃（根据溶剂沸点） |
三、装置特点
1、转化效率显著提升
相比传统的间歇釜式设计，降膜循环式设计的反应速率可提高6倍以上，外部光子效率能从0.11大幅提升至0.97。
2、高效运行且副反应少
这一优势得益于“精准光源”与“非接触设计”的协同作用：
• 窄带LED精准辐照：泊菲莱降膜式紫外光反应装置配备的高功率LED光源（可选波长255 nm至450 nm）具有窄带发射特性，能精准提供目标反应所需的能量。这有效避免了因其余波段辐照引发的副反应的发生，显著提升了产物的选择性与纯度。
• 长效稳定的光强输出：由于液膜不接触光源表面，彻底杜绝了因局部过曝产生的副产物沉积在光源表面而造成的光遮蔽风险。这不仅保障了长效稳定的光强输出，还大幅降低了停机清洗与设备维护的成本。
3、液膜形态高度稳定
装置配备了特殊的玻璃溢流边缘和涡流系统，即使在较低的流量下，也能保证液膜在整个反应面内均匀稳定，不发生撕裂，从而确保了实验的可重复性。
4、材质与工况兼容性强
• 多样化材质：可根据工艺需求选择高硼硅玻璃、石英玻璃或316 L不锈钢。
• 宽温域操作：支持-20 °C至60 °C的反应温度，且天然适合需要气相参与的光氧化或光卤化等多相反应。
