紫外光化学反应完成小规模批式实验后，进入连续化阶段，反应的运行方式会发生变化。物料需要以稳定流量通过受光区域，批式实验中的照射时间也要对应到由流量和反应器体积决定的停留时间。光源持续运行产生的热量，还可能改变体系温度。
泊菲莱小型紫外光反应装置用于小试及连续化验证，可按具体体系选配盘管式或升膜式反应器。紫外光源和温控模块用于建立可调的照射及温度条件，配合外围输送单元后，可组成连续光化学反应系统。
内照式结构便于控制光源与反应液的相对位置
装置采用内照式结构，光源位于反应区域内部，反应器围绕光源布置。这样可以通过反应器结构直接限定光源与反应液的相对位置。
装置内壁设置紫外反射结构，用于进一步利用反应区域内的光辐射。对于紫外吸收较强的体系，光源参数相同并不意味着反应液实际获得的光照条件相同；光源所在位置以及反应液在受光区域内如何分布，都会影响最终反应表现。
盘管式侧重停留时间控制，升膜式侧重液层与受光面积
装置目前提供盘管式和升膜式两种反应器配置方案。
盘管式反应器持液量约150 mL，采用螺旋上升、多层交错排布。反应液沿固定流道连续经过照射区域，其平均停留时间由流量和反应器有效体积共同决定。改变流速后，可以观察转化程度是否随停留时间变化，再判断选择性及产物稳定性是否受到影响。
这与间歇式实验中的时间控制方式不同。批式实验通常记录“照射多少分钟”，连续体系则需要把这一条件落实到具体流量和反应器体积上。如果延长照射后开始出现副反应、产物降解或选择性下降，就需要通过流速实验确定合适的停留时间窗口。
如果项目更关注液层受光状态，则可以选择升膜式反应器。目前该结构持液量约300 mL，液层厚度约10 mm，反应液以较薄液层分布于受光区域。对于紫外吸收较强、液层变化会影响反应表现的体系，这种结构能够提供与盘管不同的受光方式。
独立温控用于区分光照效应和热效应
紫外光源工作时会同时带来光输入和热量。如果提高光源功率后体系温度也随之上升，仅根据最终反应结果很难判断变化来自哪个因素。尤其当反应速率提高的同时伴随选择性下降或杂质增加时，温度就可能成为不可忽略的干扰变量。
这款装置采用水浴温控设计，温控范围为 -20～85 ℃，光源自身配置散热结构。其作用是尽量降低光源发热对反应温度的影响，使不同光照条件下获得的数据具有更好的可比性。
目前设备可配置 254 nm、180 W 紫外光源。项目需要改变照射条件时，可以更换其他波长，并相应调整功率或光源形式。
实际工艺波长不能仅由吸收峰决定。吸收光谱适合用于确定候选波段，产物在不同光照条件下是否稳定也需要确认，最终仍要通过真实反应比较不同波长下的表现。
批式实验条件进入连续体系后需要转化为具体运行参数
连续化验证要确认目标转化能否保持。如果转化结果满足要求，还需要观察选择性是否发生变化，并确认长时间运行时结果能否保持稳定。这些数据比单次终点收率更能反映体系是否具备连续运行基础。
这款装置以反应器为核心，光源和控制模块与之配套，并可连接外围输送设备。
泊菲莱可围绕光源和波长筛选开展，再根据实验结果进行反应器适配及连续化验证；项目进入更大尺度后，还可衔接小试到中试的放大验证。
主要设备参数
